曝光機(jī)通過(guò)打開(kāi)光線，發(fā)射紫外線波長(zhǎng)，將圖像信息從膠片或其他透明體傳輸?shù)酵坑懈泄獠牧系谋砻娴臋C(jī)器。曝光機(jī)在印制電路板制造工藝中，最關(guān)鍵的過(guò)程之一是將負(fù)像傳遞到銅箔基板上。首先，在基板上涂覆一層感光材料（如液體感光...
1、測(cè)量臺(tái)、曝光臺(tái)：是承載硅片的工作臺(tái)。2、激光器：也就是光源，光刻機(jī)核心設(shè)備之一。3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過(guò)足都會(huì)嚴(yán)重影響成像...
光刻機(jī)原理是通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫(huà)著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到晶圓上，最后形成芯片。就好像原本一個(gè)空空如也的大腦，通過(guò)光刻技術(shù)把指令放進(jìn)去，那...
1、光刻機(jī)制作芯片的過(guò)程，基本和“沖印照片”一樣。假設(shè)拍的是風(fēng)景，膠片上會(huì)有曝光痕跡，先要在暗室里顯影，讓風(fēng)景在膠片上顯示出來(lái)。然后在紅光下通過(guò)放大機(jī)，把膠片上的風(fēng)景投射到相紙上，讓相紙曝光。再通過(guò)相紙的顯影...
光刻機(jī)的工作原理是通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫(huà)著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷...
光刻機(jī)是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，在全世界范圍內(nèi)，有能力生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè)只有寥寥可數(shù)的幾家，其中的霸主是一家叫做ASML的...
接近式光刻機(jī)是一種微加工技術(shù)，其原理是利用激光束和光刻掩模來(lái)刻蝕硅片表面上的電路圖樣，能夠?qū)崿F(xiàn)大量生產(chǎn)，效率高。而步進(jìn)式光刻機(jī)是另一種微加工技術(shù)，其原理是通過(guò)步進(jìn)電機(jī)來(lái)實(shí)現(xiàn)光刻掩模的上下移動(dòng)，不斷變化的位移...
紫外線。富士曝光機(jī)成像原理是紫外線，光經(jīng)過(guò)MASK對(duì)涂有光刻膠的ITO玻璃曝光，曝光后的玻璃經(jīng)顯影產(chǎn)生與mask板相同的圖案。曝光機(jī)通過(guò)打開(kāi)光線，發(fā)射紫外線波長(zhǎng)，將圖像信息從膠片或其他透明體傳輸?shù)酵坑懈泄獠牧系谋砻娴臋C(jī)器...
曝光機(jī)工作原理在計(jì)算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對(duì)有機(jī)聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細(xì)...
曝光機(jī)基本工作原理：在計(jì)算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對(duì)有機(jī)聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成...
2024/10/5