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光刻機(jī)多少錢(qián)一臺(tái)

來(lái)源:懂視網(wǎng) 責(zé)編:章瑾鳳 時(shí)間:2022-10-18 15:11:04
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光刻機(jī)多少錢(qián)一臺(tái)

隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm以內(nèi),EUV光刻機(jī)是必不可少的關(guān)鍵設(shè)備,全球只有ASML公司能生產(chǎn),現(xiàn)在NA 0.33孔徑的EUV光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1.5億美元,約合10億一臺(tái),而且下一代會(huì)更貴。
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導(dǎo)讀隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm以內(nèi),EUV光刻機(jī)是必不可少的關(guān)鍵設(shè)備,全球只有ASML公司能生產(chǎn),現(xiàn)在NA 0.33孔徑的EUV光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1.5億美元,約合10億一臺(tái),而且下一代會(huì)更貴。

一臺(tái)光刻機(jī)多少錢(qián),下面就來(lái)給大家詳細(xì)介紹:

在生產(chǎn)芯片的過(guò)程當(dāng)中,光刻機(jī)起到至關(guān)重要的作用,光刻機(jī)的工藝直接決定了芯片的性能。隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm以內(nèi),EUV光刻機(jī)是必不可少的關(guān)鍵設(shè)備,全球只有ASML公司能生產(chǎn),現(xiàn)在NA 0.33孔徑的EUV光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1.5億美元,約合10億一臺(tái),而且下一代會(huì)更貴。

現(xiàn)在NA 0.33孔徑的EUV光刻機(jī)能夠量產(chǎn)3nm、2nm工藝,再往后就需要NA 0.55孔徑的下一代光刻機(jī),也就是High NA EUV,制造2nm以下的工藝必需。

High NA EUV光刻機(jī)不僅是本身昂貴,使用成本也越來(lái)越高,因?yàn)楣倪€會(huì)繼續(xù)漲,ASML最近證實(shí)High NA EUV光刻機(jī)會(huì)額外消耗0.5WM功耗,加上目前的1.5MW功耗,下一代光刻機(jī)的總功耗將達(dá)到2MW,也就是200萬(wàn)瓦的水平。如果一天24小時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn),那么下代光刻機(jī)每天就要消耗4.8萬(wàn)度電,這個(gè)成本對(duì)芯片制造企業(yè)來(lái)說(shuō)是非常高的,絕對(duì)的電老虎。

以上就是小編今天的分享了,希望可以幫助到大家。

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光刻機(jī)多少錢(qián)一臺(tái)

隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm以內(nèi),EUV光刻機(jī)是必不可少的關(guān)鍵設(shè)備,全球只有ASML公司能生產(chǎn),現(xiàn)在NA 0.33孔徑的EUV光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1.5億美元,約合10億一臺(tái),而且下一代會(huì)更貴。
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