plasma清洗工作原理
來源:懂視網(wǎng)
責編:小采
時間:2021-11-16 10:20:25
plasma清洗工作原理
plasma即等離子,其清洗原理為:射頻電源在一定的壓力情況下,在真空腔體中產(chǎn)生高能量的無序等離子體,然后等離子體轟擊在被清洗產(chǎn)品的表面,以達到清洗目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在。
導讀plasma即等離子,其清洗原理為:射頻電源在一定的壓力情況下,在真空腔體中產(chǎn)生高能量的無序等離子體,然后等離子體轟擊在被清洗產(chǎn)品的表面,以達到清洗目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在。
plasma即等離子,其清洗原理為:射頻電源在一定的壓力情況下,在真空腔體中產(chǎn)生高能量的無序等離子體,然后等離子體轟擊在被清洗產(chǎn)品的表面,以達到清洗目的。
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子清洗機的結(jié)構(gòu)主要分為三個大的部分組成,分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。
等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子,處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團,離子化的原子、分子,未反應的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
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plasma即等離子,其清洗原理為:射頻電源在一定的壓力情況下,在真空腔體中產(chǎn)生高能量的無序等離子體,然后等離子體轟擊在被清洗產(chǎn)品的表面,以達到清洗目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在。